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超节点引爆利润狂潮,大模型驱动光刻机新革命

超节点引爆利润狂潮,大模型重塑光刻机未来格局

科金社2025年11月19日 14:22消息,大模型驱动光刻机发展,超节点概念股年内净利大幅增长。

   11月19日早盘,半导体产业链相关个股出现明显异动,光刻机(胶)及第四代半导体方向表现强劲,位居市场前列。截至发稿,国风新材涨停,赛微电子涨幅接近10%,腾景科技上涨近8%,彤程新材、东方嘉盛均涨超4%,南大光电、新莱应材等多只个股涨幅也超过2%。 从当前市场表现来看,半导体行业热度持续升温,尤其是与光刻机和第四代半导体相关的板块,显示出较强的政策支持和技术突破预期。这不仅反映了市场对国产替代进程的看好,也体现出投资者对半导体产业长期发展的信心。不过,短期内的快速上涨也可能带来一定的波动风险,需关注后续政策面与基本面的进一步支撑。

超节点引爆利润狂潮,大模型驱动光刻机新革命

   消息方面,2025年北京中关村成功举办了操作系统大会。本次大会由开放原子开源欧拉(OpenAtom openEuler,简称“开源欧拉”或“openEuler”)社区联合数十家产业合作伙伴共同举办。会上,开放原子开源欧拉委员会主席熊伟正式发布了openEuler全球首个面向超节点的操作系统版本——openEuler 24.03 LTS SP3。

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